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裸銅絲對比與鋁線的優(yōu)勢
正據(jù)美國Physics Today,1999,52:9報道,美國勞倫斯伯克利國家實驗室的科學家蒙蒂羅(O.Monteiro),成功地在集成電路上沉積了銅線,這有利于集成電路的更加小型化和低能耗化。集成電路中成千上萬的晶體管是通過導線連接的,而這些導線是在預先刻蝕好的槽中沉積金屬鋁得到的。與鋁相比,銅的優(yōu)點是更低的電阻率,這使導線更精細化,進而使集成電路更小型化。
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